黑硅技術是目前解決該問題的主要路徑，其技術方案解決了金剛線切多晶硅片的反射率過高問題，由于表面反射率的降低，硅片光吸收能力提升，還能附帶一定電池效率的提升。這種降本增效的方案也被大多數多晶電池的制造廠商認可。目前，黑硅技術的成熟技術路線主要有干法（RIE）、濕法(MACE)和添加劑直接制絨三種，但是此三種方案各有優缺點，具體的選擇還需要市場進一步的驗證。
2016年以來，各大硅片及電池片廠商開始投入黑硅產業化技術研究，并取得了巨大進展。日前，協鑫集成宣布，其干法黑硅多晶電池平均量產效率已超過20.3％，最高效率達到20.8％；濕法黑硅多晶電池也已于今年2月開始量產，平均效率也已超過20％，最高效率達到20.5％。在黑硅技術產業化路線選擇上，協鑫集成執行多頭并進的電池及組件產品路線。
據協鑫集成太陽能制造事業部電池研發高級總監張淳博士介紹，2017年協鑫將朝著黑硅多晶電池量產平均效率突破20.5％、最高效率20.8％-21％的更高目標挺進，不斷突破、挑戰極限。據悉，協鑫集成高效黑硅多晶電池設計產能2GW，2017年將有1.2GW黑硅電池全面投產。
由賀利氏光伏黃金贊助的第二屆金剛線切割與黑硅技術論壇將于2017年9月18-19日在無錫召開。來自協鑫集成科技股份有限公司的電池技術總監盛健先生將做大會報告，介紹黑硅多晶電池的產業化之路。
